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KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監(jiān)控薄膜沉積，最的強(qiáng)的有力的工具

更新時(shí)間：2024-04-13      瀏覽次數(shù)：305

KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監(jiān)控薄膜沉積，最的強(qiáng)的有力的工具

在線厚度測(cè)量系統(tǒng)

監(jiān)測(cè)控制生產(chǎn)過程中移動(dòng)薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個(gè)測(cè)量位置得到

F30 系列


監(jiān)控薄膜沉積，最的強(qiáng)的有力的工具

F30 光譜反射率系統(tǒng)能實(shí)時(shí)測(cè)量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及

電介質(zhì)層的均勻性。



樣品層

分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積: 可以測(cè)量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實(shí)

際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。

image.png

各項(xiàng)優(yōu)點(diǎn):

  • 極大地提高生產(chǎn)力

  • 低成本 —幾個(gè)月就能收回成本

  • A精確 — 測(cè)量精度高于 ±1%

  • 快速 — 幾秒鐘完成測(cè)量

  • 非侵入式 — 完的全的沉積室以外進(jìn)行測(cè)試

  • 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件

  • 幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)

型號(hào)規(guī)格

*取決于薄膜種類

型號(hào)

厚度范圍*波長(zhǎng)范圍
F3015nm-70µm380-1050nm
F30-EXR15nm - 250µm380-1700nm
F30-NIR100nm - 250µm950-1700nm
F30-UV3nm-40µm190-1100nm
F30-UVX3nm - 250µm190-1700nm
F30-XT0.2µm - 450µm1440-1690nm


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